삼성전자, 평택 2라인에 낸드플래시 생산라인 투자

지난달 클린룸 공사…내년 하반기 V낸드 양산

“5G 보급에 따른 중장기 낸드 수요 증가 대응”

삼성전자 경기도 평택캠퍼스 P2라인 전경.ⓒ삼성전자

삼성전자는 경기도 평택캠퍼스 2라인에 낸드플래시 생산라인을 구축한다고 1일 밝혔다.

삼성전자는 지난달 평택 2라인에 낸드플래시 생산을 위한 클린룸 공사에 착수했으며 내년 하반기 양산을 시작할 계획이다.

이번 투자는 인공지능(AI), 사물인터넷(IoT) 등 4차 산업혁명 도래와 5세대 이동통신(5G) 보급에 따른 중장기 낸드수요 확대에 대응하기 위해서라고 회사 측은 설명했다.

최근 비대면(언택트) 생활문화 확산으로 이런 추세가 더욱 가속될 것으로 예상되는 가운데, 적극적인 투자로 미래 시장기회를 선점해 나간다는 전략이다.

지난 2015년 조성된 평택캠퍼스는 삼성전자의 차세대 메모리 전초기지로서 세계 최대규모의 생산라인 2개가 건설됐다. 이번 투자로 증설된 라인에서는 삼성전자의 최첨단 V낸드 제품이 양산될 예정이다.

삼성전자는 2002년 낸드플래시 시장 1위에 올라 현재까지 18년 이상 글로벌 시장 리더의 자리를 지키고 있다. 지난해 7월에는 업계 최초로 6세대(1xx단) V낸드 제품을 양산한 바 있다.

국내에는 화성과 평택, 해외에는 중국 시안에 낸드플래시 생산라인을 운영 중이다. 국내외 균형 있는 투자를 통해 안정적인 글로벌 공급망을 유지하고 시장리더십을 더욱 강화할 예정이다.

최철 삼성전자 메모리사업부 전략마케팅실 부사장은 “이번 투자는 불확실한 환경 속에서도 메모리 초격차를 더욱 확대하기 위한 노력”이라며 “최고의 제품으로 고객 수요에 차질없이 대응함으로써 국가경제와 글로벌 정보기술(IT)산업 성장에 기여할 것”이라고 밝혔다.

삼성전자 경기도 평택캠퍼스 P2라인 전경.ⓒ삼성전자