ASML 아성에 도전?…中업체, EUV 광원 시제품 공개

상업적 양산까진 3~5년 필요

출력 증대·안정성이 '과제'

네덜란드 펠트호번에 있는 반도체 장비 회사 ASML 로고. ⓒAP/뉴시스

미국의 첨단 반도체 제조 장비 수출 제한에 맞서 중국이 기술 자립을 강조하는 가운데, 한 중국 업체가 자체 개발한 극자외선(EUV) 노광 장비 핵심 부품 시제품을 공개했다.

15일(현지시간) 관찰자망·홍콩01 등 중화권 매체에 따르면, 중국 업체 랑다오쑤이옌(朗道燧岩)은 상하이에서 열린 제26회 중국 국제 공업박람회에서 'EUV 광원 시스템' 시제품을 처음 선보였다.

홍콩01은 이 부품이 노광 장비의 심장과 같다며, 지금까지 공개된 중국 국산 제품 가운데 가장 선두에 있다고 평가했다.

업체 직원은 자사 EUV 광원 시스템의 국산화율이 90%에 달하고, 대다수 핵심 부품을 자주적으로 연구·개발(R&D)했다고 밝혔다. 나아가 기술적 노선이 세계 선두 업체들과 같고 웨이퍼 노광 테스트에 사용할 수 있는 수준이라고 설명했다.

그러면서도 해당 부품을 실제 상업적으로 양산하려면 여전히 3∼5년이 필요하다며, 주요 도전 과제로 출력 증대와 장기 가동 시 안정성을 꼽았다.

상업용 EUV 노광 장비는 광원 출력이 수백 와트(W)급이고 고강도로 장시간 가동 시에도 안정적이어야 한다. 해당 시제품은 이와는 격차가 뚜렷하고 산업망 전반과의 협력을 통해 난관을 돌파해야 하는 수준인 것으로 전해졌다.

ASML은 2013년 당시 세계 선두이던 광원 기업 사이머를 인수해 고출력 EUV 광원 기술의 산업망을 장악한 바 있다. 미국은 기술 수출 통제를 통해 네덜란드 업체 ASML이 독점 생산하는 EUV 노광장비의 중국 수출을 막았다.

EUV 노광장비는 7나노(나노미터·10억분의 1m) 이하 첨단 반도체 생산에 핵심으로 꼽히며, EUV 노광장비 수출 통제는 중국 반도체 산업 발전에 주요 장애물로 꼽힌다.